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        物理氣相沉積是通過蒸發(fā)，電離或?yàn)R射等過程，產(chǎn)生金屬粒子并與反應(yīng)氣體反應(yīng)形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍?nèi)N，目前應(yīng)用較廣的是離子鍍。        

        物理氣相沉積技術(shù)表示在真空條件下，采用物理方法，將固體或液體表面汽化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，使之相互碰撞并產(chǎn)生多種反應(yīng)，且在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜技術(shù)。

        物理氣相沉積鍍層材料非常廣泛，可鍍各種金屬、合金、氧化物、氮化物、碳化物等化合物鍍層，也能鍍制金屬、化合物的多層或復(fù)合層、鍍層附著力強(qiáng)、工藝溫度低、工件一般無受熱變形或材料變質(zhì)等問題，且鍍層純度高、組織致密，工藝過程主要由電參數(shù)控制，易于控制、調(diào)節(jié)，對(duì)環(huán)境無污染。 

        物理氣相沉積技術(shù)目前在刀具、模具、建筑裝飾、特殊薄膜材料、電學(xué)及醫(yī)學(xué)領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。